微弧氧化

微弧氧化處理（Micro-Arc Oxidation）可應用於鋁合金、鎂合金和鈦合金等材料上，有些稱做鋁氧化處理。其目的是使金屬表面產生一層傳統草酸／硫酸陽極無法形成的陶瓷氧化層。 此陶瓷層除了耐腐蝕、耐磨耗的特性外，亦具有高硬度、膜厚均勻、疲勞強度、尺寸精確及耐溫等物性需求。

傳統電鍍常因電流高低或弱電死角而造成工件鍍層厚薄不均。無電解鎳則是將工件沉浸於化學鍍液中，不需要任何陽極板和電鍍工具來輔助。此表面處理作業對於工件上的深孔、凹槽或不規則的形狀，都可獲得均勻的膜厚。

有別於一般草酸、硫酸陽極的六方最密堆積（HCP）結構，微弧氧化陽極為結晶狀的多孔陶瓷層。此陶瓷層透過一很薄的障蔽層和金屬基材緊密結合，其形成是由厚度相等的微孔層和多孔層層疊而成。多孔表面除了適用於外觀件之後塗裝，亦可作特殊物性要求之含浸後處理，例如PTFE, Sol-Gel, Water-bone resin 等。

微弧氧化陽極處理亦可產生黑色的氧化膜。此陶瓷層即使處於高溫、強光的環境，仍保有其抗紫外線的物性，不會褪色。 除了光學物性的需求外，也適用於真空或航太…等熱傳導元件。