微弧氧化
鋁合金、鎂合金、鈦合金微弧氧化處理
微弧氧化處理（Micro-Arc Oxidation）可應用於鋁合金、鎂合金和鈦合金等材料上。其目的是使金屬表面產生一層傳統草酸／硫酸陽極無法形成的陶瓷氧化層。此陶瓷層除了耐腐蝕、耐磨耗的特性外，亦具有高硬度、膜厚均勻、疲勞強度、尺寸精確及耐溫等物性需求。
傳統電鍍常因電流高低或弱電死角而造成工件鍍層厚薄不均。無電解鎳則是將工件沉浸於化學鍍液中，不需要任何陽極板和電鍍工具來輔助。此表面處理作業對於工件上的深孔、凹槽或不規則的形狀，都可獲得均勻的膜厚。
微弧氧化鍍層結構
有別於一般草酸、硫酸陽極的六方最密堆積（HCP）結構，微弧氧化陽極為結晶狀的多孔陶瓷層。此陶瓷層透過一很薄的障蔽層和金屬基材緊密結合，其形成是由厚度相等的微孔層和多孔層層疊而成。多孔表面除了適用於外觀件之後塗裝，亦可作特殊物性要求之含浸後處理，例如PTFE, Sol-Gel, Water-bone resin 等。
物性資料
| 物性 | 鋁合金微弧氧化 (Kepla-coat®) | 鎂合金微弧氧化 (Magoxid-coat®) | 鈦合金微弧氧化 (Kepla-coat®) |
|---|---|---|---|
| 膜厚 | up to 120μm | up to 40μm | up to 50μm |
| 硬度 | 500-1500 HV | 400-800 HV | - |
| 耐蝕性 DIN 50021 | 3000小時/30μm | 經封孔後 400小時/30μm | 3000小時/30μm |
| 耐電壓 ISO 2376 | 10 V/μm | 13 V/μm | 12 V/μm |
| 耐溫 | 鈦合金可達700°C, 鎂、鋁合金則高於基材熔點。 | ||
| 附著度 | 大於30 Mpa | ||
| 透氣率 | 10-6 Pa．l．s-1．Cm-2 | ||
黑色微弧氧化
微弧氧化陽極處理亦可產生黑色的氧化膜。此陶瓷層即使處於高溫、強光的環境，仍保有其抗紫外線的物性，不會褪色。
除了光學物性的需求外，也適用於真空或航太…等熱傳導元件。
光學物性
應用範圍
- 航太工業
- 船舶工業
- 真空技術
- 資訊工業
- 微機電工業
- 汽車工業
- 通訊科技
- 生醫、骨科移植
- 電子、光電科技
- 半導體工業
Copyright© 美上鎂科技股份有限公司
